上海微电子中标光刻机项目，会给半导体行业带来哪些影响？-股票资讯-财云量化

摘要：

12月25日，上海微电子装备中标采购步进扫描式光刻机项目，受此刺激，张江高科股价午后直线拉升，一度暴涨超8%，该消息引发市场对半导体行业的关注。

中标消息

上海微电子中标光刻机项目

12月25日，据中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台，成交金额10999.985万元。招标方为科学技术部的LGGJ实验室，项目金额11300万元。受此消息刺激，张江高科股价午后直线拉升，一度暴涨超8%，截至收盘，涨幅仍达4.81%。

步进扫描光刻技术

步进扫描光刻是一种混合光刻技术，结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势。该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆，标准曝光尺寸为26mm×33mm，可增大曝光场并一次曝光多个芯片，其具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力，适用于0.25μm以下的制造工艺，尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用。

上海微电子的发展历程

公司概况

上海微电子成立于2002年，经营范围包含半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务等。股东包括上海电气控股集团有限公司、上海科技创业投资有限公司、上海光微青合投资中心（有限合伙）、上海张江浩成创业投资有限公司等。其中，上海张江浩成创业投资有限公司由A股公司张江高科（600895）全资持有。

光刻机产品系列

上海微电子官方网站显示有5大光刻设备，分别为SSX600系列光刻机、SSB500系列光刻机、SSB300系列步进光刻机、SSB200小Mask系列曝光机、SSB200大Mask系列曝光机。其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于8寸产线或12寸产线。

上海微电子中标光刻机项目，会给半导体行业带来哪些影响？

半导体行业的影响

国产化进程加速

在半导体装备领域，光刻机始终处于核心关键设备的地位。目前该市场长期由ASML、尼康和佳能等国际厂商主导。上海微电子作为国内目前唯一具备先进前道光刻机研发能力的企业，其成功中标光刻机项目，将有助于加速我国半导体装备的国产化进程。

带动配套产业升级

有券商机构认为，光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等“卡脖子”材料的国产化进程。随着上海微电子在光刻机领域的不断发展，相关配套产业也将迎来更多的机遇。